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连续格氏反应装置CSTR

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  • 更新时间:2025-07-16
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简要描述:连续格氏反应装置CSTR:岩征以自动化技术为核心优势,专注于多通道固定床反应器、高通量催化剂评价装置、实验室反应装置、微型反应釜、实验室高压反应釜、成套连续反应装置等领域,为化工、科研、环保、制药、医疗多个行业客户提供成套设备和一体化解决方案。

产品详情
品牌岩征仪器产地类别国产
应用领域综合

连续格氏反应装置CSTR


连续格氏反应装置是专为格氏反应(Grignard reaction)设计的连续化生产设备,通过集成精准进料、高效混合、温控及无水无氧保障系统,解决传统间歇反应中安全性差、产率波动大等问题,广泛应用于医药、农药及精细化工的碳 - 碳键构建过程。
其核心结构包括:双柱塞进料系统(分别输送卤代烃溶液与镁粉悬浮液,流量精度 ±0.5%)、微通道混合反应器(通道尺寸 0.5-2mm,材质为哈氏合金或蓝宝石,耐溶剂腐蚀)、分段式温控模块(-40℃至 60℃可调,温差控制 ±1℃)、在线脱水脱气单元(配备分子筛干燥柱与惰性气体保护回路)及产物淬灭系统(连续注入氯化铵水溶液终止反应)。关键安全组件含压力传感器(量程 0-2MPa)与紧急排空阀,响应时间 < 0.1 秒。

工作时,经严格干燥的卤代烃(如溴苯)与镁粉 - 悬浮液按 1:1.05 摩尔比连续注入微通道,在湍流作用下形成微米级液固混合(比表面积达 5000m²/m³),于 30-40℃下快速生成格氏试剂(如苯基溴化镁),停留时间控制在 10-60 秒。生成的格氏试剂直接进入后续反应段与羰基化合物(如苯甲醛)连续反应,全程在氮气保护下进行(氧含量 < 5ppm,水含量 < 10ppm),避免试剂分解。相较于间歇反应,连续体系的放热速率可通过通道壁面及时移除,温度波动小于 ±2℃,杜绝局部过热引发的溶剂暴沸。

连续格氏反应装置CSTR

应用领域表现突出:医药合成中用于抗抑郁药舍曲林中间体的连续制备,格氏反应收率达 96%,较间歇工艺提升 12%,且批次间纯度偏差 < 0.5%;农药领域适配拟除虫菊酯前体的生产,通过连续化实现从氯代烃到醇的一步转化,生产效率较传统釜式反应提高 3 倍;精细化工中用于液晶材料的碳链延长反应,产物顺反异构体比例可通过停留时间精准调控(偏差 < 2%)。
其显著优势在于:微通道强化传质使格氏试剂生成速率提升 5-8 倍,单套设备日产能可达 50-500kg;反应体积仅为传统间歇釜的 1/100,大幅降低溶剂挥发与火灾风险(符合 ATEX 防爆标准);通过在线监测与反馈调节,可将副产物(如联苯)含量控制在 0.5% 以下;无水无氧闭环系统使试剂稳定性提高,保质期从间歇反应的 4 小时延长至连续生产的稳定输出。作为有机合成连续化的关键设备,其实现了高风险反应的安全可控生产,为精细化学品规模化制备提供了高效平台。



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